陈林森教授

陈林森，男，研究员，博士生导师，九三学社社员。从事微纳光学与柔性制造的前沿研究与创新应用。

自1986年研究生毕业以来，在全息与微纳光学、新型显示与光场成像、数字光刻与纳米压印光刻、柔性光电子与智能制造领域，做出系统性和开拓性贡献，成果在国内外应用产生广泛影响。曾兼任中国光学学会全息与光信息处理专委会主任（2005年~2015年），全国纳米技术标准化技术委员会委员（2012年~）、国内外多家著名期刊编委与审稿人；江苏省“333工程”第一层次人才（2013年~）；江苏省政协委员（三届，2002-2017年）、九三学社苏州市主委（2014年11月~2021年11月）、江苏省人大代表（2017-2022年）和苏州市政协副主席（2017-2022年）。

荣誉奖励：

学术奖：作为主持人，荣获3项国家科技进步奖二等奖（2019，2011和2001年度，国务院）、5项江苏省科技奖一等奖（2022，2018、2011、2007和1999年度，江苏省人民政府）及其省/部/全国学（协）会科技奖10余项；发明专利获7项中国专利优秀奖（2023,2021，2020，2016，2015，2012和2010年，国家知识产权局）；“基于数字化三维光刻的微纳智能制造与应用”入选“2022中国智能制造十大科技进展”（国际智能制造联盟&中科协智能制造学会联合体）和“直写光刻机MicroLab”获“金燧奖”中国光电仪器品牌榜十大金奖（2022年，中国光学工程学会）等。

荣誉奖：国务院特殊津贴专家（1998年）、全国留学回国人员成就奖（2003年，中组部、人社部、科技部、教育部等六部委）、全国自主创新成果奖（2006年，全国侨联）、江苏省“六大高峰人才”优秀团队带头人（2006年）、首届苏州市创新创业市长奖（2007年，苏州市政府）、苏州市杰出人才奖（2008年，苏州市委市政府)、建国60年“全国印刷业百名科技创新标兵”称号（中国印协，2009年）、全国模范教师称号（2010年，教育部）、全国先进工作者称号（2011年，国务院）、江苏省创新创业人才奖（2011年，省委省政府）、首届江苏省专利发明人奖（2017年，省政府）、第十一届“发明创业奖‧人物奖”特等奖并被授予“当代发明家称号”（中国发明协会，2020年）和第四届“杰出工程师奖”（2021年，中华国际科技交流基金会）等。

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我国最早提出“微纳光学与柔性制造”，作为首席科学家，主持承担国家863计划-先进制造领域重大项目、国家重大仪器设备开发专项、国家重点研发项目；主持国家自然科学基金重点/集成/面上、国家国际科技合作计划、省/部科技项目等20余项，优异完成，研究成果得到国内外同行肯定与赞誉。

1、数字光刻（三维计算光刻、纳米光刻、投影扫描光刻）、卷对卷纳米压印光刻）、微纳光学算法与器件研制等方面，攻克多项国际重大难题，做出系统性与开创性贡献，已授权发明专利150余项（PCT20余项）。

2、在超表面与超材料、全息光学与新型显示、光场计算成像和与柔性功能材料等方面，发表论文180余篇（Light，Optica, AOM, Adv.Mater., EES, Nanophotonics，Optics Express等）。

3、“大型三维计算光刻系统与工业软件”、“柔性套准纳米压印光刻系统与工艺”和“光场计算成像与显示技术”等研究成果，实现国际领跑，为我国信息光电子、新型显示和光学安全等领域的跨代创新和产业培育、参加国际竞争，发挥重大作用。

代表性成果：

1、打造“微纳智能制造”技术体系，为米级幅面微纳结构功能化，开辟了新赛道，做出开创性贡献。

“基于数字化三维光刻的微纳智能制造与应用”入选“2022中国智能制造十大科技进展”；“面向柔性光电子的微纳制造关键技术与应用”，2019年度国家科技进步二等奖（排名第一）；第十一届“发明创业奖‧人物奖”特等奖并被授予“当代发明家称号”。

1)数字光刻技术与算法。提出并实现SLM亚波长光刻方法（2003-20011年）、三维光刻方法（2013年~），带领团队自主研制成功“网络协同计算的紫外三维光刻设备iGrapher3000”（2020年，全球首台，110吋幅面），攻克一系列国际重大难题（光场振幅/相位联合数字化调控、百Tb数据实时处理算法与数字光场曝光、微纳结构高精度与高效率兼容性光刻等），实现工业运行，为我国新材料、信息显示与感知、国家安全领域开展自主创新、保障产业安全，提供了底层关键技术手段，具有重大战略价值。作为国家重大技术装备，被工信部上报中央办公厅和国务院办公厅（2020年9月）。

2)柔性纳米压印光刻技术与系统。在国际上率先突破大面积微纳结构模具的设计与制备国际难题，实现卷对卷纳米压印的工业化（2003年~）和光转印工业化（2008年），为大面积柔性光电子、全息光学材料的工程化，开辟了新赛道。提出套准微纳压印方法（2017年~），自主研制“卷对卷智能套准微纳压印光刻装备NanoAligner”（首台套，2019年，1400mm门幅）。建立了“大型柔性微纳光转印工程化平台”，为柔性光电子材料的成果转化，开辟了新途径。

3）微纳结构功能化的算法与智能计算。面向大面积平面光子器件和材料的数字化制造需求，研发并打造了微纳结构功能化的算法体系，开发了相应的工业软件，为平面光子器件的前沿研究与创新应用，打造了自主可控的算法引擎。支持米级幅面光子器件的数字设计，如立体图像与光场显示算法（菲涅尔层析法）、微纳结构的OPC算法、光场计算成像的智能算法（海量数据的协同计算，500Tb）、超薄导光结构设计算法、高性能透明导电屏蔽材料的算法。开创性地提出采用迭代算法和三维计算光刻，在国际上首次研制成功“100吋口径薄膜聚光透镜”（光场型，~500Tb数据量），实现了传统精密光学加工无法企及的数字化制造，具有颠覆性意义。

“微纳智能制造”成为开展大幅面、复杂微纳结构（达500Tb数据量）光子材料与器件工程研究的全新平台。成果入选“2022中国智能制造十大科技进展”。

2、创造性地提出并实现全息图像数字化，组织建立大口径微纳光学器件制造条件，服务于国家重大工程和民生工程。

“高品质模压全息制版系统与生产技术”，2001年度国家科技进步二等奖（排名第一）。

1）纳米光变色器件与纳米光栅原版。研制成功“800mmx600mm纳米光栅压印模板”（2002年，国际领先水平），提出利用光子晶体的导模共振光变色效应（光变色膜）应用于第二代身份证等国家法律证卡光学可视防伪（2004年~），服务于每位公民，产生巨大社会效益和广泛的国内外影响。

2）大面积衍射光学器件与条件建设。组织推动“大口径衍射光学元件与条件建设”国家重大项目（2002年~），研制的衍射光子器件与材料应用于国家重大工程，打破了国际禁运。该进展使得我国成为国际上少数几个具备大面积衍射光栅、纳米光栅（光波导，>250nm周期）和光刻机定位光栅的研制条件的国家。

3）全息图像彩色化与数字化。提出了3D物体的真彩色编码方法，研制了真彩色全息图成为国内外全息光学领域的代表作品（1996年，SPIE封面）；发明并研制成功“数码全息制版系统HoloMakerIII”，我国光学泰斗王大珩院士等同行专家主持国家级验收（1998年），评价为国际领先水平。数码全息制版系统的广泛应用，推动我国全息图像的数字化进展，促进了我国全息产业形成与发展。主持研制“大场景全息图”（2米x3米）重大成果，入选“庆祝中华人民共和国成立50周年辉煌成就展”（2009年）。

3、面向光场显示与成像，自主研制的像素化纳米光刻系统，成为开展大面积亚波长光子器件研究的新通道。

“宽幅微纳图形化制造技术与产业应用”，2011年度国家科技进步二等奖（排名第一）。

1）创造性地提出傅里叶变换的纳米光刻方法。面向光场远场传输与精密调控需求，发明了傅里叶变换的连续变空频和光场相位调控、像素化纳米光刻方法（2013年~），研制成功“亚纳米调控精度的纳米光刻设备NanoCrystals200”（首台套，2015年，32吋），成为大面积超构纳米光栅、多焦点全息透镜、超表面材料研究的原创手段。相关微纳光刻设备作为g国家重大创新成果，入选“十二五”国家科技创新成就展（2016年）。

2）振幅与相位联合调控的全息3D显示。面向裸眼3D显示的视疲劳难题，提出逐像素相位调控的会聚多视点的全息3D显示的基础方法（2015年~），研究成功“6吋、32吋全息3D显示屏”（均为全球首例，2016年，2018年），克服了传统裸眼3D显示的视疲劳，这一长期性国际难题。相关论文（2015年-2023年）国际主流科技媒体长文评述，国内外头部企业关注与合作，为全息3D显示的工程化展示光明前景，具有产业引领性。

3）光场计算成像与显示。面向国家公共安全需求，提出了空间悬空成像的机理与物理构架，开发了大面积光场计算成像的智能算法，在国际上首次实现了空间光场成像器件及全流程工程化手段，为我国新一代光学安全与虚实融合显示提供了基础技术和原创手段。

科技创业：

创建苏大维格科技集团（2001年12月，深交所A股创业板上市，2012年6月），国家高新技术企业。首届江苏省企业技术创新奖（2011年）、国家印刷示范企业（2011年）、国家知识产权示范企业（2018年）和国家博士后工作站（2007年~），牵头组建“数码激光成像与显示国家地方联合工程研究中心”（国家发改委批准，2011年）、江苏省柔性光电子与制造技术重点实验室（2019年）和江苏省创新联合体试点单位（2022年）。

面向国家需求、产业链升级和绿色低碳趋势，建立了“微纳光制造”工程研究平台，一批原创成果转化并在国内外广泛应用。包括：

1、直写光刻机（MicroLab100，MiScan200UV），打破国外垄断，实现进口替代。应用于高等院所（清华、复旦、南大、中科院多家研究所等）和头部企业，解决卡脖子技术。

2、创建立体图像的技术体系，率先实现了立体图像设计数字化-制版微纳化-制造绿色化。应用于印刷产业（奥运邮票、中华、茅台等品牌等），基于微纳光转印的立体图像的工业化，是印刷业百年来里程碑成果。

3、光学防伪技术/数字光刻系统，应用于国家法律证卡与公共安全领域，社会效益显著。

4、自主建立了柔性透明电极智能绿色产线（100吋幅面,100nm数字分辨率），国际上首条无金属蚀刻工艺的电路制程。支持10.5代显示面板的大尺寸高性能电容触控屏，各项性能国际领跑，应用于国际智能终端品牌（日本Iiyama，美国Cisco，Zoom；韩国LG等；科大讯飞、视源、创维、海信等）。

5、超薄导光器件与纳米制造技术，大幅提升显示器光效。应用于全球笔记本电脑（微软、华为、小米、HP、联想等品牌、京东方、华星光电和友达光电等企业），推动了显示节能发展。

学科建设：

人才培养：组建了高效协同的产学研融合创新团队，成为“有组织创新”的成功典型。培养的研究生、青年教师，成为多个高科技领域的创新创业领军人才和专家教授，为逾百名研究生提供了研究实践机会。作为学科带头人，获批“光学工程”硕士点学位授权（1996年）；作为带头人之一，获批“光学工程”一级学科博士点授权（2003年），所在“微纳光学”学科入选江苏省优势建设学科，

创新平台：1、牵头组建：江苏省柔性光电子与制造技术重点实验室（2019年，2022年评估优秀，全省第一）；2、参与组建“国家2011计划”苏州纳米科技协同创新中心（2013年，兼任微纳柔性制造专业中心主任）、现代光学技术教育部重点实验室；3、牵头创建：数码激光成像与显示教育部工程研究中心（2008年）、国家地方联合工程研究中心（国家发改委批准，2011年）和“江苏省新型印刷与图像工程技术研究中心”（2002年）。4、在相关前沿研究和产业创新领域取得一批标志性成果，培育多家国家高新技术企业。

1、微纳光学：光场调控与重构；衍射光学元件、光场数字化

2、数字光刻技术与系统：三维/多维计算光刻与海量数据处理算法、像素化纳米光刻与精密调控技术、HJT高速光刻系统

3、柔性光电子与智能制造：柔性纳米压印光刻/光转印、增材制造系统、微纳结构功能化（超表面、导光、导电、屏蔽、传感）
4、光场成像与显示：新型显示与3D显示、光场计算成像与先进算法、虚实融合成像AR-HUD

Please refer to：Research activities on micro-nano-manufacturing at SVG Optronics

博士后：每年2名
博士生：每年1-2名
硕士生：每年2-3名