仪器名称 |
纳米压印机 |
厂家 |
NIL Technology |
型号 |
CNI V3.0-100 |
主要规格及技术指标 |
承载基片：满足直径120 mm及以内的材料，高度≥20 mm，可扩展≥45 mm； 压印真空度：≥1 mbar 加热温度：最高温度≤250℃ 最大压力：≤10 bar UV波长：4个组合的LED光源，波长365 nm，LED光源的温度被实时检测，拥有过热保护功能 UV最大功率：≥11,600 mW 压印软件：运行CNI软件，该软件控制压印过程中的所有内容（压力，温度，紫外线照射，时间等） |
主要功能及应用范围 |
该压印机是一款专为实验室开发的即插即用，兼具热压印和紫外压印两种功能，而且可以快速的实现真空环境下的压印。UV盖和连接器的压印腔室，控制模块，用于自动控制压印过程（压力，温度，UV曝光等），压印室可实现真空兼容，低至1 mbar。 |
主要附件 |
直径120 mm的印模承载平台（可加热至250℃） |
联系人：刘艳云 |
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联系电话：65883196 |
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E-mial：yyliu1@suda.edu.cn |
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责任编辑：朱文昌