系统组成 |
扫描电镜和电子束曝光图形发生器 |
扫描电镜厂家 |
美国FEI |
扫描电镜型号 |
Quanta 200FEG |
扫描电镜主要规格及技术指标 |
1.分辨率:二次电子成像 高真空模式:2.0 nm(30 KV),3.5 nm(3 KV) 2.加速电压范围:200 V~30 KV |
电子束曝光图形发生器厂家 |
德国Raith |
电子束曝光图形发生器型号 |
ELPHY Quantum |
电子束曝光图形发生器主要规格及技术指标 |
1. 扫描频率6MHz 2. 最小停留时间167 ns 3. 写场修正:硬件修正 |
扫描电镜电子束曝光系统主要功能及应用范围 |
1、 固体物质的形貌分析。 2、 采用电子束直接曝光的方法,用于制做微纳图形结构。无需掩模版,可用于制作:微纳电子器件,光电子器件,低维材料的纳米电极等。 |
联系人 |
韩玉洁 |
联系电话 |
65880320 |
E-Mail: |
yjhan@suda.edu.cn |
责任编辑:朱文昌