黄天源，男，博士学位，2018年毕业于www.优德88.cpm ，博士期间赴美国普林斯顿大学进行联合培养（18个月）。2019至2021年，在深圳大学从事博士后研究（李建刚院士工作站），现就职于www.优德88.cpm 物理科学与技术学院（助理研究员）。任中国力学学会等离子体科学与技术专业委员会委员，中国电工技术学会会员，2022年获“江苏省双创博士”。

电子邮件：tyhuang@suda.edu.cn

研究领域：目前致力于低温等离子体基础物理问题及等离子体-材料相互作用机理研究。主要面向光伏器件、微电子半导体、先进功能薄膜材料制备工艺中的核心等离子体装备（等离子体刻蚀、镀膜机），系统开展低温等离子体特性诊断、物理过程分析以及等离子体工艺多尺度仿真建模研究。

代表作：

1、Ion behavior impact on ITO thin film fabrication via DC magnetron sputtering with external anode, Vacuum, 2024, 221, 112848.

2、Influence of Nitrogen Seeding on the Electron and Ion Behaviors in Helicon Wave Excited Argon Plasma, Plasma Chemistry and Plasma Processing, 2023, 43, 547.

3、The application of a helicon plasma source in reactive sputter deposition of tungsten nitride thin films, Plasma science and technology, 2022, 24, 065503.

4、Sputter deposition of WNx thin films by helicon-wave-excited argon plasma with N2 seeding, Surface & Coatings Technology, 2021, 410, 126941.

5、Helicon-Wave-Excited Helium Plasma Performance and Wall-Conditioning Study on EAST, IEEE Transactions on Plasma Science, 2020, 48, 2878.