大型紫外三维光刻技术与装备

时间:2021-06-07作者:浏览次数:549



实现从平面图形光刻到三维光刻的跨越,攻克大面积三维光刻、网络协同海量数据写入难题。

  • 直写分辨率100nm


  • 结构50nm~50um


  • 幅面110吋


  • 定位精度10nm


  • 数据处理能力:500Tb


  • 光刻速度6h~24h/m