场发射扫描电子显微镜

场发射扫描电子显微镜


英文名:Field emission scanning electron microscope

仪器编号:暂缺

生产厂家:日本Hitachi公司

仪器型号:SU8010

单价(): 2830770

购置时间: 2016.10

存放地点: 独墅湖校区701-1219

联系人: 卞国庆 曹向前Tel67060362


主要技术指标:

  1. 场发射扫描电镜:

  1. 电子光学系统: 1.1分辨率: 二次电子像:1.0 nm / 15kV1.4 nm / 1kV1.2放大倍率:20-800,000倍;1.3加速电压:加速电压:0.5kV30 Kv,着陆电压:最低0.1kV1.4具有超低电压能力设计或者减速功能;1.5电子枪:场发射电子枪;1.6工作距离:1.530mm,能谱仪分析工作距离可近到15mm以下

  2. 样品室及样品台: 2.1样品交换仓:4英寸样品交换仓,最大放样直径:≥100mm;;2.2五轴全自动马达样品台:样品台移动最大范围指标:50mmX方向),50mmY方向),1.5-30mmZ方向),-5+70°(倾斜),360°(旋转);2.4双轴摇杆操作系统,带旋钮操作控制面板;

  3. 二次电子探测器:配置高位、低位二次电子探测器,高位探测器可选择接受二次电子像和背散射电子像,可以任意比例混合,在低压下(小于2kV)可成背散射电子像。

  1. 美国EDAXTEAM Octane Super能谱仪:

  1. 探测器:硅漂移SDD电子冷探头,FET高速硅漂移晶体,有效面积60mm2

  2. 能量分辨率(Mn-Ka):优于129eV

  3. 元素分析范围:Be4U92

  4. 谱峰稳定性: 在l000 cps100,000 cps之间,谱峰漂移小于leV, 分辨率变化小于leV48小时内峰位漂移小于1.5eV;

  5. 定性分析:可自动标识谱峰,除惰性分析元素外,无禁止自动标定的元素;能进行谱重构,对重叠峰进行手动峰剥离

  1. 精密切割机:

  1. 型号:德国徕卡TXP

  2. 用途:可对样品进行精确目标定位,并对样品进行跣削、修块、切割、研磨、抛光等加工;实时显微观察。

  3. 观察系统:放大倍率9.6×77×;环形LED照明,四分割,可选不同的照明角度和亮度;样品观察角度为090゜;样品臂倾斜角度为060゜;

  4. 机械控制:工作轴转速30020000rpm可调;步径100μm10μm1μm0.5μm可选;具有自动磨抛功能;

  1. 离子溅射仪:

  1. 厂家:英国COWAQ; 型号:S150RTL-1

  2. 靶材:AuPt

  3. 性能:颗粒小于5nm


主要功能用途:

  1. 场发射扫描电子显微镜(FESEM)具有超高分辨率,能做各种固态样品表面形貌的二次电子像、反射电子像观察及图像处理。

  2. 具有高性能X射线能谱仪,能同时进行样品表层的微区点线面元素的定性、半定量及定量分析,具有形貌、化学组分综合分析能力。

应用范围:

纳米材料、薄膜材料、无机催化、高分子材料、半导体、陶瓷、生物等各类材料以及电子线路板的形态、相及晶体的观察和分析。